TICKET

18.09.2025

Keynote:
Ethische
Verantwortung
in Innovation

Plenum

09:00 – 10:30 Uhr

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Ethische Verantwortung in Innovation – Wie wir Technologie klug und gerecht gestalten

Beschreibung:

 

Innovation treibt uns voran – doch wer trägt die Verantwortung für ihre Auswirkungen? Künstliche Intelligenz, Biotechnologie und digitale Technologien eröffnen faszinierende Möglichkeiten, werfen aber auch dringende ethische Fragen auf. Wie können wir Fortschritt nachhaltig gestalten, Risiken minimieren und sicherstellen, dass neue Technologien zum Wohl der Gesellschaft eingesetzt werden? 

Prof. Dr. Alena Buyx, eine der führenden Ethik-Expertinnen Deutschlands, zeigt in ihrer Keynote auf, welche ethischen Leitplanken für Innovation notwendig sind – und warum Projektmanager:innen als zentrale Entscheidungsträger:innen eine besondere Verantwortung tragen. 

Mehrwert:

 

Mit ihrer interdisziplinären Expertise und ihrem fundierten Wissen über die gesellschaftlichen, politischen und wirtschaftlichen Auswirkungen neuer Technologien gibt Prof. Buyx konkrete Denkanstöße für eine verantwortungsvolle Zukunftsgestaltung.  

 

 

Diese Keynote liefert wertvolle Impulse zu:

  • Ethischen Prinzipien im Umgang mit KI und neuen Technologien – Wie wir Innovation verantwortungsvoll steuern. 
  • Bias, Fairness und Transparenz – Warum ethische Herausforderungen oft komplexer sind als gedacht. 
  • Vertrauen in Technologie – Welche Rahmenbedingungen notwendig sind, um Akzeptanz zu schaffen. 
  • Projektmanagement als Schlüsselrolle – Wie Führungskräfte ethische Fragen aktiv mitdenken und gestalten können.  
bild alena byx keynote speaker 34 IPMA world congress

Prof. Dr. Alena Buyx

Ehem. Vorsitzende des Deutschen Ethikrates, Professorin für Ethik in der Medizin und Gesundheitstechnologien

Logo der GPM Deutsche Gesellschaft für Projektmanagement e. V.
Logo für das 34. IPMA Worldcongress in Berlin 2025
Logo der International Project Management Association
Shaping the future with project management Signet
Logo für den 60. Geburtstag der IPMA

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